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設備制造

輝(hui)納涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)HINa-Carbon系(xi)列PVD涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)設(she)備是一(yi)款提(ti)供高品質(zhi)、工業級的(de)(de)(de)(de)類(lei)金剛石(DLC)薄膜涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)設(she)備，集(ji)增強型磁控濺射與(yu)離子束等多(duo)種技術(shu)為一(yi)體，采用輝(hui)納涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)自(zi)(zi)主研發的(de)(de)(de)(de)獨特工藝和設(she)計，HiNa-Carbon涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)設(she)備所提(ti)供的(de)(de)(de)(de)涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)產品可應用于(yu)自(zi)(zi)動化零部(bu)件、汽車零部(bu)件、紡織(zhi)零部(bu)件及刀具(ju)等領域。輝(hui)納涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)提(ti)供的(de)(de)(de)(de)HiNa-Carbon涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)設(she)備本身具(ju)有良好的(de)(de)(de)(de)工藝穩定(ding)性，也可根據客(ke)戶需求(qiu)量身定(ding)制相關工藝，以滿足(zu)客(ke)戶的(de)(de)(de)(de)市(shi)場(chang)需求(qiu)。


HiNa-Carbon 標準設備(bei)的基本(ben)參(can)數


涂層設備總體尺寸（毫(hao)米）

2400(寬）x2400(深(shen))x2000(高)

設備功率

50(千瓦),380(伏)三相

壓縮空氣和冷卻水

0.46~0.60兆帕，1.5立方米(mi)/每分鐘

靶源冷卻25°C，腔體(ti)冷卻35°C

真空抽氣系統

機械選片泵1臺

分子泵1臺

200立方米/小時

2500升/秒

無負載系統極限真空 1.0x10-4帕

真空測量系統

低(di)真(zhen)空/電阻規/2路

高(gao)真空/離子規/1路(lu)

鍍膜(mo)離子源(yuan)(yuan)和(he)電源(yuan)(yuan)（電源(yuan)(yuan)可(ke)根據客戶(hu)需求自選）

磁控濺射源1套

離子束源2套     磁控濺射電源1套

離子束電源2套

偏壓電源1套

靶(ba)源尺寸664x85毫米

陽極層離子束

直流電源

高壓直流脈沖電源

靶功率<10千(qian)瓦

有效工(gong)作電(dian)壓1500伏

電源功(gong)率10千瓦，占空比0~90%，頻率40千赫茲

工藝氣體

獨立(li)2路(lu)，質量流量控(kong)制(zhi)器MFC（可根據客戶需要增(zeng)加(jia)獨立(li)氣路(lu)）

工件轉架

2套(tao)、帶(dai)12個(ge)直徑(jing)120毫米(mi)可獨立轉(zhuan)動的(de)行星轉(zhuan)塔，可連同(tong)被鍍(du)工件整體裝卸，轉(zhuan)速(su)~10轉(zhuan)分(fen)鐘，轉(zhuan)架(jia)尺(chi)寸直徑(jing)730毫米(mi)，承載重量(liang)350公(gong)斤

鍍膜機控制系統

PLC控制系統+工業(ye)PC/PLC

系統具備全(quan)自動，手動和維護3種操作模式

所(suo)以所(suo)有運行參數記錄于電腦(nao)之中供(gong)分析查閱(yue)

開(kai)放式(shi)軟件界面，用戶可(ke)自行開(kai)發工藝(yi)

涂層工藝

隨機附送應用于汽車零部件和工具上的類金剛石(DLC)涂層工藝和輔助工藝