TaC涂層(ceng)是一種不(bu)含(han)氫類(lei)金剛石(shi)(DLC)涂層(ceng)的(de)簡稱(cheng)。
TaC涂層(ceng)是一種不(bu)含(han)氫類(lei)金剛石(shi)(DLC)涂層(ceng)的(de)簡稱(cheng)。
薄膜厚度：<=2um
摩(mo)擦系數：<0.01
薄膜硬(ying)度：=<80GPa (~HV8000)
最高使(shi)用(yong)溫度：600°C
薄膜顏色： 無色~黑色
工藝溫度(du)： <200°C
涂層(ceng)結構(gou)： 納米單層(ceng)/復合
通常由石墨靶材直接濺射出碳原子形成。而且可以在常溫下進行涂層，對基材的范圍選擇比較廣，突破原有涂層對基材的限制，如一些非金屬基材橡膠、塑料、陶瓷等多可以進行涂層。TaC涂層里金剛石SP3成分含量高，最高可以達到80%。但是此類涂層內應力較大，脆性高，通常不能沉積太厚的涂層,因此使用范圍比較受限制。