氮化鈦(tai)(TIN)通常有兩(liang)種方式獲得。
氮化鈦(tai)(TIN)通常有兩(liang)種方式獲得。
輝納(na)-氮化鈦(TiN)涂層的(de)特性(xing)
薄膜(mo)厚度(du)：<=8um
摩擦系數(shu)：<0.4
薄膜硬度：=<25GPa (~HV2500)
最高(gao)使用溫度：600°C
薄膜顏色： 金黃色
工藝溫度： 180~400°C
涂(tu)層(ceng)結構： 納米單層(ceng)/復合
氮化鈦(TIN)通(tong)常有兩(liang)(liang)種方式(shi)獲得(de)(de)，第(di)一種為磁控濺射(she)(she)方式(shi)獲得(de)(de)，第(di)二種為陰極(ji)電(dian)弧方式(shi)獲得(de)(de)，兩(liang)(liang)種方式(shi)各有優(you)缺點，磁控濺射(she)(she)方式(shi)獲得(de)(de)的(de)涂層硬(ying)度(du)較低，但是顆粒細膩，表(biao)面(mian)光潔度(du)好(hao)。印記電(dian)弧方式(shi)獲得(de)(de)的(de)涂層，表(biao)面(mian)硬(ying)度(du)高但顆粒度(du)大，而(er)且表(biao)面(mian)缺陷比較多，通(tong)常需(xu)要進(jin)行鍍后拋光處(chu)理。