物(wu)理氣相(xiang)(xiang)沉積(ji)( PVD )，有時（尤其是在單晶生長環境中）稱為(wei)物(wu)理氣相(xiang)(xiang)傳(chuan)輸(shu)( PVT )，描述了(le)各種可(ke)用(yong)于生產(chan)薄膜和涂層的(de)(de)真空沉積(ji)方法。 PVD 的(de)(de)特點是材料從凝(ning)相(xiang)(xiang)轉變為(wei)氣相(xiang)(xiang)，然后又回到薄膜凝(ning)相(xiang)(xiang)的(de)(de)過程。最常見的(de)(de) PVD 工(gong)藝(yi)是濺射和蒸發。 PVD 用(yong)于制(zhi)造需要薄膜用(yong)于機械(xie)、光學(xue)、化學(xue)或電子功能。包(bao)括半導體(ti)設備，例如薄膜太陽(yang)能電池(chi)板、用(yong)于食品包(bao)裝(zhuang)和氣球的(de)(de)鍍(du)鋁PET膜、以(yi)及(ji)用(yong)于金屬加工(gong)的(de)(de)氮(dan)化鈦涂層切削(xue)工(gong)具。除(chu)了(le)用(yong)于制(zhi)造的(de)(de) PVD 工(gong)具外，還開發了(le)特殊(shu)的(de)(de)小型工(gong)具（主要用(yong)于科學(xue)目(mu)的(de)(de)）。

優點：

1、PVD 涂層有時比電鍍工(gong)藝應(ying)用(yong)的(de)涂層更(geng)(geng)硬、更(geng)(geng)耐腐蝕。大多數涂料具有高溫和(he)良(liang)好(hao)的(de)沖擊強度、優異的(de)耐磨性，并且非(fei)常(chang)耐用(yong)，很少需要(yao)保護性面漆。

2、能夠在使用(yong)(yong)各種(zhong)飾(shi)面的(de)同樣(yang)多樣(yang)化的(de)基材和表(biao)面上使用(yong)(yong)幾乎任何(he)類型(xing)的(de)無(wu)機和一些(xie)有機涂層(ceng)材料。

3、比電鍍、噴漆等(deng)傳統涂裝工藝更環保。

4、可以使(shi)用不止一種技術來沉積給定的薄膜。

缺點：

1、特定技(ji)術可能會施加限制；例如，視線轉(zhuan)移(yi)是(shi)大(da)多數 PVD 涂層技(ji)術的典型特征，但是(shi)，有些方(fang)法可以完全覆蓋復(fu)雜的幾何(he)形狀。

2、一些(xie) PVD 技術通常(chang)(chang)在非常(chang)(chang)高(gao)的溫度和真空下運行，需要操作人(ren)員特別注(zhu)意。

3、需要冷卻水系(xi)統(tong)來(lai)散發大量熱負荷。